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机译:等离子体辅助ALD过程中的衬底偏置对TiO2薄膜的晶相控制
Profijt, HB Harald; Sanden, van de, MCM Richard; Kessels, WMM Erwin;
机译:等离子体辅助ALD过程中的衬底偏置对TiO _2薄膜的晶相控制
机译:微波等离子体辅助Al_2O_3薄膜的ALD:感兴趣的各种参数对衬底温度的依赖性研究
机译:等离子体辅助ALD具有外部RF衬底偏置的低电阻率HFNX
机译:微波等离子体辅助溅射沉积在偏置基材上铜膜的微观结构和应力分析
机译:激光辐照控制TiO2的晶相和薄膜形貌
机译:直流磁控溅射过程中衬底偏置对VO2薄膜质量及其绝缘体-金属过渡行为的影响
机译:TiO(2)薄膜的晶相控制等离子辅助ALD过程中的衬底偏置
机译:薄膜半导体装置的制造方法,薄膜半导体阵列基板的制造方法,结晶硅薄膜的形成方法以及结晶硅薄膜的形成装置
机译:制造薄膜半导体器件的方法,制造薄膜半导体阵列基质的方法,形成晶体硅薄膜的方法和形成晶体硅薄膜的装置
机译:薄膜半导体装置的结晶硅薄膜的制造方法,薄膜半导体阵列基板的制造方法,以及结晶硅薄膜的形成方法
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